ul. Wspólna 1/3 
00-529 Warszawa 53

9. CHEMIA, TECHNOLOGIA CHEMICZNA oraz INZYNIERIA PROCESOWA i OCHRONA SRODOWISKA

9.3. Inżynieria Chemiczna i Procesowa

 
SUBSTANCJE POWIERZCHNIOWO CZYNNE W ZASTOSOWANIACH TECHNOLOGICZNYCH I BIOMEDYCZNYCH

W projekcie badano specyficzne własności cieczy wynikające z obecności w nich substancji powierzchniowo czynnych, zwanych inaczej surfaktantami lub detergentami. Zdolność surfaktantów do obniżania napięcia powierzchniowego w roztworach powoduje, że są  one szeroko wykorzystywane, m.in. do produkcji środków myjących i piorących, kosmetyków, leków, farb, środków ochrony roślin, itd. Szczególne substancje powierzchniowo czynne występują także naturalnie w układach biologicznych, gdzie spełniają ważne funkcje fizjologiczne (np. surfaktant płucny człowieka).

W badaniach, przeprowadzonych w ramach projektu, skoncentrowano się na procesach o czasie trwania rzędu sekund i krótszych, przebiegających przy udziale surfaktantów w pobliżu powierzchni ciecz-gaz. Na drodze modelowania matematycznego oraz doświadczeń  analizowano zmiany napięcia powierzchniowego w trakcie wzrostu lub zaniku powierzchni ciecz-gaz. Tego typu, o zmiennej wielkości, powierzchnie występują m.in. w  rozpowszechnionych w technice układach pianowych i aerozolowych a także w płucach podlegających cyklicznemu rozciąganiu i kurczeniu się w trakcie oddychania. Opracowany opis procesu umożliwia ocenę aktywności związków powierzchniowo czynnych w roztworach wodnych, co m.in. pozwala na dobór optymalnego rodzaju i stężenia związku dla wybranego zastosowania technicznego.

Do istotnych osiągnięć projektu należy również zaliczyć wnioski sformułowane w odniesieniu do surfaktantu płucnego. Pozwalają one na lepsze zrozumienie funkcji fizjologicznych pełnionych przez substancje powierzchniowo czynne, naturalnie występujące w układzie oddechowym człowieka, dając jednocześnie wskazówki dotyczące wyboru metod profilaktyki i terapii stanów związanych z ich niedoborem (m.in. określenia składu i sposobu podawania sztucznego surfaktantu zastępczego).   (A.N.)

dr inż. Tomasz R. Sosnowski
Wydział Inżynierii Chemicznej i Procesowej, Politechnika Warszawska
ul. Waryńskiego 1, 00-645 Warszawa
tel. 660 62 78,  fax 825 14 40
e-mail: sosnowsk@ichip.pw.edu.pl
 
 

Spis dziedzin i dyscyplin


BACK